钛硅溅射靶

钛硅(TiSi)是氮化物硬质涂层的优异材料。硅保证了优异的抗氧化性,钛能确保涂层具有极高的硬度。两者组合起来,即使在极高温度下也具有耐磨性。

钛硅溅射靶

钛硅氮涂层耐磨性极强,能够帮助您实现高速机加工。即使机加工时不使用冷却剂也没有问题。利用钛硅氮化物涂层工具,即使对镍基合金和钛基合金等非常坚韧的材料,都可轻松加工。

氮化钛晶体嵌入非晶氮化硅基(Si3N4),形成陶瓷纳米复合材料涂层。利用反应性磁控溅射工艺或电弧蒸发工艺将TiSiN涂层喷涂在工具上。

现有不同尺寸靶材与阴极如下:

  • 钛硅 85 / 15 %
  • 钛硅 80 / 20 %
  • 钛硅 75 / 25 %
最重要因素一览表
钛/硅含量[at%]85 / 1580 / 2075 / 25
纯度 [%]99.899.899.8
可靠密度 [g/cm3]4.404.374.35
粒度 [µm]100100100

最佳微观结构:理想涂层

钛硅溅射靶微观结构

由于我们在混合粉末时格外小心谨慎,因此与采用熔融工艺获得的材料相比,我们材料的微观结构均匀得多,且晶粒度更细。这意味着产品上形成的液滴大大减少,从而形成极佳的光滑涂层。

延展性高,使用寿命长

在涂层过程中,我们的溅射靶和电弧阴极必须承受诸多严苛的应用条件。在涂层过程中,靶边缘的材料须耐受高达1吨的力。使用脆性材料时,这个力会造成靶材断裂。由于在我们的材料中,含有硅的金属间颗粒嵌入了纯钛线料中,因此我们的靶材的延展性特别好。另外,由于我们采用的粉末冶金生产工艺,靶材密度达到了理论密度的98%。结果:具有超强抗断裂性、较长使用寿命的靶材。

更强大的技术支持

攀时与日本企业日立公司达成了许可证协议。当然,我们也希望您能受益于这一优势:使用我们钛硅靶的用户同时被授权生产专利JP-3765475(日立金属公司)所涵盖的TiSiN涂层。

纯度品质保证

纯度最高钼矿

涂层材料越纯,硬质材料层质量越好。从一开始我们就只使用最精细的粉末,我们在自有设备中混合这些粉末,以确保达到极高的材料纯度。从粉末到成品,我们对每个步骤进行监控,并确保只出厂具有规定密度、纯度和均匀微观结构的靶材。

独家供应商提供完美品质

最高质量的钼与钨

作为领先的溅射靶制造商,我们自行负责生产工艺的每个步骤。从金属粉末的混合与压实到靶材的成型、机加工和粘结:包括开发新材料以优化涂层工艺和薄膜。当然,我们也利用先进的测量方法验证靶材的质量。

想拥有完美的涂层吗?攀时能做到!

溅射靶实验室

我们非常清楚,在PVD涂层工艺中,每个部件必须完美结合。只有高质量溅射靶与电弧完美结合,并且慎重选择工艺参数,才有可能创造出能恰好满足您需要的涂层。通过与用户及大量研发机构的合作,能使我们源源不断地开发出新型涂层材料。

您正在寻求完美的涂层吗?我们能够凭借我们的长期经验与丰富多元的化学材料和产品工艺数据库来为您实现。在我们涂层实验室中,开发人员在接近真实的条件下开展涂层操作。其成果有利于溅射靶和电弧阴极的持续开发,并有助于改善以下材料与涂层特性:

  • 晶粒度和微观结构
  • 延展性
  • 材料硬度
  • 抗氧化性
  • 摩擦系数
  • 耐高温性

我们引入了更多元素以完善我们的钛硅混合物,从而满足您的精确要求。敬请联系我们!

钛-硅溅射靶

为您提供其它产品

我们将竭诚为您提供相应的固定材料,如:石墨箔、螺丝、垫片和螺栓。

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