钨镍溅射靶:为电致变色涂层服务

攀时为制造智能玻璃的电致变色层供应合适的钨镍溅射靶。客户通过反应溅射工艺,生成钨镍合金氧化物层。在通常情况下,电致变色层是无色透明的,当接通直流电压时,锂离子会使电致变色层变蓝,也就是说降低了电致变色的透明度。

钨镍溅射靶

均匀性和密度:溅射靶需要注意的几个要点

传统的钨镍靶制造采用热喷涂工艺。这项工艺的缺点在于不能将镍均匀地喷涂到整个靶材上,而且溅射靶的材料密度通常会低于90%,这对于客户来说意味着什么呢?

如果镍没能均匀地分布在材料中,由此产生的纯镍分布会给不同区域带来铁磁体。这会给溅射性能带来负面影响,并直接影响到电致变色层的成色质量。

喷涂过程中溅射靶材的厚度被限制在5到6毫米,这意味着客户不得不经常更换溅射靶。另外,喷涂靶材的多孔性也将导致溅射中更多的颗粒和成膜缺陷。我们使用粉末冶金工艺制造钨-镍溅射靶,并且在自己的工厂内完成从金属粉末到制成品的每一道工序。高于99.5%的密度,意味着我们制造的溅射靶厚度可以达到18毫米,相比喷涂靶,用户不必再如此频繁地更换靶材,每块靶材可比喷涂靶多两到三倍的寿命

攀时生产的靶材具有非常均匀,致密的微观结构。使用光学显微镜观察攀时的钨镍溅射靶,您能从这幅图像中看到钨镍化合物基底中的纯钨(深灰色)。但有两样东西是您看不到的,即游离的镍和多孔性的材料。

钨镍微观结构

无论您如何看,镍在整块靶材的分布都是非常均匀、一致的,并且其整体含量的浮动不会超过要求的平均值的±0.5%。

攀时钨镍溅射靶最重要的特性
密度 [%] ≥ 99,5
纯度 > 99,97 wt %
镍分布一致 < +/- 0.5 wt.%
镍含量 25 至 55 wt.%
微观结构 细密、均匀

专利申请

专利申请

攀时就钨镍溅射靶的生产工艺申请了专利。

 

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