蚀刻效果更佳:钼钨靶

攀时钼钨(MoW)合金增强了对抗ITO、铝或铜蚀刻溶液的稳定性。通过添加钨到纯钼,我们可选择性地减慢蚀刻速度。我们可在靶中精确调整钨浓度,以满足您的要求和应用需求。凭借攀时的粉末冶金技术,我们可保证您能从均匀钨分布工艺中受益匪浅。

钼钨平面溅射靶

独家供应商提供完美品质

我们是唯一一家能在自有工厂内完成各阶段钼靶生产的制造商。从原材料到成品:包括新材料开发以及涂层方法和涂层的优化。

氧化物
还原
混合
炼制合金
我们将金属粉末与粉末混合,在高达2吨/平方厘米压力(每平方厘米2吨)下压制成一个“生坯”。当需要生产特别苛刻的几何形状的成品时,我们会确保“生坯”在压制阶段形成适当的形状。
压制
压制
成形

处理
机械
处理
焊合
质量
保证
回收利用

烧结,是我们粉末冶金生产技术的基石。利用该法把多孔粉末原料生产成结构紧凑的金属零件。我们拥有世界上最大型的难熔金属热轧机,生产出具有最大密度的平面靶。我们采用特殊成型工艺生产旋转靶。

想拥有完美的涂层吗?攀时能做到!

在PVD工艺中,每个部件均须完美契合。必须在所有工艺参数均完全达到要求的情况下,才能形成符合您需求的涂层。我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中,我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。通过与客户及各研发机构的合作,我们能最大限度地缩短新涂层材料研发所需的上市时间。

我们自己就是自身专业性的最佳证明!我们对许多自己生产的产品在内部采用PVD、CVD、APS、VPS等涂层工艺进行涂层,例如半导体原片与X射线靶材。

PVD实验室
我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中,我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。

原料:确实与肯定

自1921年以来,攀时做为一独立的私营公司就一直得到客户的信赖。在原材料供应方面,对于我们和客户而言,可靠性和持续性尤为重要。通过环球钨和粉末公司(GTP)公司及其在Molibdenos y Metales (Molymet)公司的持股,攀时集团实现了钼和钨加工的垂直整合——从利用粉末冶金工艺生产粉末,到向客户提供半成品和定制部件。

钼矿
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