钼钽溅射靶: 优异的防腐性

钼在玻璃上具有良好粘附性以及高导电率,所以被广泛用于薄膜晶体管(TFT-LCD)与接触传感器(触摸屏)电极层。

在生产过程中或者用于未来显示器,这些部件都会受大气湿气与用户手上汗液的影响。攀时的钼钽解决方案是应对腐蚀问题的理想方法。

钼钽溅射靶

钼钽溅射靶: 优异的防腐性

最重要的技术指标
密度 [%] ≥ 99.5
纯度 [%] > 99.97
热膨胀系数 [ppm/K] 5.34
导热性 [W/(m• K)]97
导电性 [MS/m]13
微观结构 细密、均匀
高品质溅射靶

高密度

我们采用热成型工艺将钼钽溅射靶压实至密度达99.5 %以上,从而使我们的产品沉积速率高,尤其可在分层构件中实现极高的导电率,并达到快速溅射目的。

极高的纯度

溅射靶中的金属和气体杂质在溅射功能层中几乎以1:1的比例复制,从而可能在PVD工艺中形成颗粒。我们能保证我们的钼钽靶纯度至少达到99.97 %

无与伦比的耐腐蚀性

我们在纯钼中掺入少量防腐性极强的钽元素,从而能将两种金属的有利特性结合起来。对钼钽的大量试验已证明该材料防腐性

在60 °C与 90 %相对湿度条件下,经过不同的暴露时间后,钼和钼钽蚀刻薄膜(厚度300 nm):

钼钽

暴露时间:0小时
钼钽

暴露时间:50小时
钼钽

暴露时间:100小时
钼钽
MoTa
暴露时间:0小时
钼钽
MoTa
暴露时间:50小时
钼钽
钼钽:
暴露时间:100小时

可靠的蚀刻结果

钼钽的构成尤为迅速简便。钼钽锥度为45°。相对来说,具有相似防腐性的竞争产品的锥度达 90°,该锥度过大。随后形成的任何功能层均不能很好地覆盖这些尖锐斜面,因此可能会造成裂隙和短路现象。

独家供应商提供完美品质

我们是唯一一家能在自有工厂内完成各阶段钼靶生产的制造商。从原材料到成品:包括新材料开发以及涂层方法和涂层的优化。

氧化物
还原
混合
炼制合金
我们将金属粉末与粉末混合,在高达2吨/平方厘米压力(每平方厘米2吨)下压制成一个“生坯”。当需要生产特别苛刻的几何形状的成品时,我们会确保“生坯”在压制阶段形成适当的形状。
压制
压制
成形

处理
机械
处理
焊合
质量
保证
回收利用

烧结,是我们粉末冶金生产技术的基石。利用该法把多孔粉末原料生产成结构紧凑的金属零件。我们拥有世界上最大型的难熔金属热轧机,生产出具有最大密度的平面靶。我们采用特殊成型工艺生产旋转靶。

想拥有完美的涂层吗?攀时能做到!

在PVD工艺中,每个部件均须完美契合。必须在所有工艺参数均完全达到要求的情况下,才能形成符合您需求的涂层。我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中,我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。通过与客户及各研发机构的合作,我们能最大限度地缩短新涂层材料研发所需的上市时间。

我们自己就是自身专业性的最佳证明!我们对许多自己生产的产品在内部采用PVD、CVD、APS、VPS等涂层工艺进行涂层,例如半导体原片与X射线靶材。

PVD实验室
我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中,我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。
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Paul Rudnik
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