钼铌:用于触摸屏的防腐层

高品质溅射靶

在触摸屏中,钼铌(MoNb)用于极耐腐蚀的ITO传感器金属接线。攀时钼铌溅射靶材的质量值得信赖。我们是唯一一家在自有工厂内完成各阶段溅射靶材生产的制造商:从最纯净的金属粉末到最终的溅射靶材。我们在亚洲拥有属于自己的焊合工厂,为您供应钼铌靶材。我们能够提供所有常见的尺寸的钼铌平面靶与旋转靶。

旋转溅射靶
最重要的技术指标
密度 [%] ≥ 99.5%
纯度 [%] > 99.97
热膨胀系数 [ppm/K] 5.38
导热性 [W/(m• K)]103
导电性 [MS/m] 13.5 MS/m
微观结构 单相材料、无氧化物

100%均匀度: 化学成分与薄膜厚度

您看到下面那片均匀的灰色区域吗?它就是扫描电子显微镜下攀时钼铌材料。没错!优异的材料均匀度是攀时材料的强项之一。

钼铌
电子显微镜下的钼铌

在其它的钼铌靶材中,钼相和铌相互相连接,所以这种材料其实是双相材料。相对来讲,攀时的钼铌是由混合晶体构成的单相材料。我们称这种新研制的材料为MoNb Solid solution。也就是说,100%均质靶材在随后会成为您的100%均匀薄膜。

因为所有的颗粒都是相同的材料,所以在溅射过程中不会发生速率不均。在整个溅射面上的无论是薄膜密度还是铌含量都是均匀的。铌含量的标准偏差小于1%(按重量计算)。

100% 无氧化

攀时是采用粉末冶金技术生产难熔金属的专家级企业。无论是圆形还是平直,我们的MoNb靶材都是由经过仔细混合的超纯金属粉末制成。随后对粉末进行压制,在我们的烧结系统中进行均匀的致密,之后才会成形为您的靶材。

与我们的竞争对手不同,攀时一直把溅射靶中的氧含量保持在极低的水平。当然,对于我们是如何做到这一点的,这是一个严守的秘密。但是您在使用我们靶材时会因材料纯度极高而受益,您能够在很大程度上避免衬底局部发生Arcing,这一现象被称之为弧光效应。

专利申请

钼铌溅射靶专利

我们已对自身研发的无氧化物的MoNb溅射靶材制造工艺提出了专利申请。在购买溅射靶时请做出您的选择。只有在日本因为专利保护的相关注意事项原因我们暂时无法供应攀时MoNb靶。

了解攀时钼钽材料

攀时还为您的触摸屏提供耐腐蚀材料钼钽。钼钽让您能够特别快速与便易的构造您的薄膜。

想拥有完美的涂层吗?攀时能做到!

在PVD工艺中,每个部件均须完美契合。必须在所有工艺参数均完全达到要求的情况下,才能形成符合您需求的涂层。我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中,我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。通过与客户及各研发机构的合作,我们能最大限度地缩短新涂层材料研发所需的上市时间。

我们自己就是自身专业性的最佳证明!我们对许多自己生产的产品在内部采用PVD、CVD、APS、VPS等涂层工艺进行涂层,例如半导体原片与X射线靶材。

PVD实验室
我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中,我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。

全球销售点敬请惠顾

我们的溅射靶材和电弧阴极在奥地利和德国工厂完成生产。在亚洲我们也拥有自己的焊合加工工厂。能够快速响应您的需求,确保就地为亚洲客户提供服务。

溅射靶包装与运输
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