钼溅射靶
对用于TFT-LCD屏幕的薄膜晶体管来说，钼涂层是其重要的组成部分。运用钼涂层，能够瞬间控制个体图像点（像素），从而确保特别清晰的图像质量。钼层还被用为CIGS太阳能电池的静合触点。
如何制造钼薄膜
使用磁控溅射法，微小金属颗粒从溅射靶中汽化，随后沉积在玻璃衬底上形成薄膜。在这个快速、经济的涂装工艺中，所有材料都必须符合最高质量标准。攀时钼溅射靶值得您的信任。
极高纯度
攀时钼靶的纯度堪称无与伦比。其最重要的优点在于所形成的薄膜具有极高的导电率，并且能够最大程度地减少PVD过程中形成的颗粒。原因在于溅射靶材中的金属和非金属杂质在生成的薄膜中几乎以1：1的比例生长，从而在PVD过程中形成颗粒（电弧效应）。我们保证我们的钼靶纯度至少达99.97 %，平均纯度甚至可达到99.99 %，典型含氧量为6ppm。而其它竞争对手的产品在这方面远远无法与我们相匹敌。因此，我们可以确保TFT-LCD显示器中的每个像素以及CIGS静合触点均能发挥完美功能。
最高密度：均匀微结构
我们采用特殊成型工艺，使钼溅射靶材的密度几乎可达到100%。 同时，其较高的溅射速度，亦能加快您的生产过程。钼靶的密度越大，形成涂层的导电率越高。
我们采用灵活的生产工艺，能够调整涂层材料的微结构，从而实现您所期望的效果。在溅射靶材晶粒均匀排列的情况下，可产生具有稳定刻蚀速率且均匀的涂层。
想拥有完美的涂层吗？攀时能做到!
在PVD工艺中，每个部件均须完美契合。必须在所有工艺参数均完全达到要求的情况下，才能形成符合您需求的涂层。我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中，我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。通过与客户及各研发机构的合作，我们能最大限度地缩短新涂层材料研发所需的上市时间。
我们自己就是自身专业性的最佳证明！我们对许多自己生产的产品在内部采用PVD、CVD、APS、VPS等涂层工艺进行涂层，例如半导体原片与X射线靶材。
平面钼靶
20多年来，我们的材料在TFT显示器中作为薄膜证实了自身价值。
- 纯度极高
- 最高密度
- 均匀的微观结构
您可以选择单块或者多块平面靶，焊合步骤将在攀时焊合工厂进行。无论是常见程序，还是按照客户具体要求，我们都能为您提供符合您要求的平面溅射靶。
旋转钼靶
您想实现材料利用最大化吗？采用我们的旋转靶，靶材料的利用率可提高75%，且使用寿命更长。在可重复使用的钢或钛衬管上，我们生产的旋转靶最长达4米。
您也可对我们的单块旋转靶进行测试，并且这种靶无需使用衬管。这些靶对温度较不敏感，并且可在高达30 kW/m的极高功率密度下进行溅射。
单体靶的ID涂层
您想节约成本? 我们能为您提供新的选择: 用于单体溅射靶的高分子基内径涂层。
独家供应商提供完美品质
我们是唯一一家在自有工厂内完成各阶段溅射靶材生产的制造商。从原材料到成品，包括新材料的研发与涂层与涂层方式的优化。烧结，是我们粉末冶金生产技术的基石，我们利用该法把多孔粉末坯制造成致密金属零件；我们利用世界上最大型的难熔金属热轧机，生产出具有最大密度的平面靶；我们采用特殊成型工艺生产旋转靶。
