钼溅射靶

对用于TFT-LCD屏幕的薄膜晶体管来说,钼涂层是其重要的组成部分。运用钼涂层,能够瞬间控制个体图像点(像素),从而确保特别清晰的图像质量。钼层还被用为CIGS太阳能电池的静合触点。

如何制造钼薄膜

使用磁控溅射法,微小金属颗粒从溅射靶中汽化,随后沉积在玻璃衬底上形成薄膜。在这个快速、经济的涂装工艺中,所有材料都必须符合最高质量标准。攀时钼溅射靶值得您的信任。

视频:所有都攀时内部生产

极高纯度

攀时钼靶的纯度堪称无与伦比。其最重要的优点在于所形成的薄膜具有极高的导电率,并且能够最大程度地减少PVD过程中形成的颗粒。原因在于溅射靶材中的金属和非金属杂质在生成的薄膜中几乎以1:1的比例生长,从而在PVD过程中形成颗粒(电弧效应)。我们保证我们的钼靶纯度至少达99.97 %,平均纯度甚至可达到99.99 %,典型含氧量为6ppm。而其它竞争对手的产品在这方面远远无法与我们相匹敌。因此,我们可以确保TFT-LCD显示器中的每个像素以及CIGS静合触点均能发挥完美功能。

日本焊合工厂
攀时在亚洲拥有自己的焊合工厂。
钼旋转靶
谨慎检测质量
钼旋转靶
正确包装

最高密度:均匀微结构

我们采用特殊成型工艺,使钼溅射靶材的密度几乎可达到100%。 同时,其较高的溅射速度,亦能加快您的生产过程。钼靶的密度越大,形成涂层的导电率越高。

我们采用灵活的生产工艺,能够调整涂层材料的微结构,从而实现您所期望的效果。在溅射靶材晶粒均匀排列的情况下,可产生具有稳定刻蚀速率且均匀的涂层。

高质量溅射靶

想拥有完美的涂层吗?攀时能做到!

在PVD工艺中,每个部件均须完美契合。必须在所有工艺参数均完全达到要求的情况下,才能形成符合您需求的涂层。我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中,我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。通过与客户及各研发机构的合作,我们能最大限度地缩短新涂层材料研发所需的上市时间。

我们自己就是自身专业性的最佳证明!我们对许多自己生产的产品在内部采用PVD、CVD、APS、VPS等涂层工艺进行涂层,例如半导体原片与X射线靶材。

PVD实验室
我们的溅射工艺在近实时条件下的PVD应用实验室中进行。在此过程中,我们的研发团队会根据您的规格制作涂层并开展详细分析。

平面钼靶

20多年来,我们的材料在TFT显示器中作为薄膜证实了自身价值。

  • 纯度极高
  • 最高密度
  • 均匀的微观结构

您可以选择单块或者多块平面靶,焊合步骤将在攀时焊合工厂进行。无论是常见程序,还是按照客户具体要求,我们都能为您提供符合您要求的平面溅射靶。

旋转靶

旋转钼靶

您想实现材料利用最大化吗?采用我们的旋转靶,靶材料的利用率可提高75%,且使用寿命更长。在可重复使用的钢或钛衬管上,我们生产的旋转靶最长达4米。

您也可对我们的单块旋转靶进行测试,并且这种靶无需使用衬管。这些靶对温度较不敏感,并且可在高达30 kW/m的极高功率密度下进行溅射。

单体旋转靶
钼单体旋转靶
单体旋转靶
单体溅射靶

单体靶的ID涂层

经内部直径涂层防护溅射靶材

您想节约成本? 我们能为您提供新的选择: 用于单体溅射靶的高分子基内径涂层。

点击了解更多攀时钼制旋转靶材的信息.

独家供应商提供完美品质

我们是唯一一家在自有工厂内完成各阶段溅射靶材生产的制造商。从原材料到成品,包括新材料的研发与涂层与涂层方式的优化。烧结,是我们粉末冶金生产技术的基石,我们利用该法把多孔粉末坯制造成致密金属零件;我们利用世界上最大型的难熔金属热轧机,生产出具有最大密度的平面靶;我们采用特殊成型工艺生产旋转靶。

氧化物
还原
混合
炼制合金
我们将金属粉末与粉末混合,在高达2吨/平方厘米压力(每平方厘米2吨)下压制成一个“生坯”。当需要生产特别苛刻的几何形状的成品时,我们会确保“生坯”在压制阶段形成适当的形状。
压制
压制
成形

处理
机械
处理
焊合
质量
保证
回收利用
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