为高难度任务提供涂层材料:攀时参加圣地亚哥 ICMCTF 会议

ICMCTF (国际冶金涂料与薄膜会议)会议将在4月29日至5月3日期间召开, 攀时将在会上展示其在陶瓷靶材领域上令人惊叹的发展历程。

将诸如硬化钢、铝或钛合金等材料强行炼制成完全符合您需求的标准形态是一项要求很高的工作。极薄、耐磨的硬质材料涂层,钻孔机、铣床以及其它工具将解决这些日常问题。

硬质材料涂层应用范围广泛:最硬的涂层用于模具工业。航空元件和机动车中的引掣部分也有耐磨涂层的保护,使它们能承受所需要面对的的极端条件。典型的材料涂层是采用喷溅或电弧蒸发法用铬或复合材料(如钛铝或铝铬)制成。在这些工艺中产生的陶瓷膜是由蒸发靶材与活性气体相组合而形成的

攀时是少数能生产陶瓷靶的供应商之一:碳化钨、碳化硅、硅化铬和二硼化钛是新式涂层材料,可胜任最为苛刻的应用条件。

 

给客户带来的利益包括:薄膜的材料构成与靶材相对应达到精确的标准。过度饱和及不足都已成为过去。“陶瓷靶的到来为涂层技术开辟了新的可能。我们现在能创造出具有新特性组合的涂层并无需添加活性气体。” 攀时硬质涂层市场部门主任Ulrich Miller 解释说。同时,攀时已开发出用于电弧蒸发工艺的相应载体系统:用钼或铜制成一体化载板,带有的一个阴极环环围涂层材料并保持阴极材料上的电弧。

自2008年以来,攀时一直运用热压系统生产陶瓷靶。 4月初,全球最先进以及最大的SPS(放电等离子烧结)系统在德国莱希布鲁克的生产基地投入运行。通过该系统的运用攀时能够更快、更经济地制造出符合生产标准的原型。以不断创新并改善靶材的几何形态,以及改善为客户特定的材料组合为目标。通过全自动化标准生产步骤该系统将适用于所有产品尺寸的生产。其近净成形生产能力可节省材料并从而为客户降低成本。

您希望了解更多吗? 请到ICMCTF来与我们的专家面谈!从2013年4月29日至5月3日在大展览厅,222号展位。

您可以在这里得到更多有关攀时陶瓷电弧阴极的信息。