半导体行业中的精度问题

攀时的材料如何在半导体行业中发挥作用?来巴利亚多利德(西班牙)和旧金山寻找答案吧。届时,我们将在这里展示离子注入备件和先进标准元件。

攀时的产品组合由采用钼、钨、石墨或陶瓷制造的9,000多种元件组成。因此,我们能够向所有原始设备制造商(OEM )供应合适的离子注入机用更换件 — 从离子源,沿着束路径,直至靶室。

对我们的客户而言,攀时备件的重要性与日俱增,已经超越了单纯备件的意义。无论何时,只要我们意识到节约客户时间和金钱的可能性,我们便能提供先进的标准解决方案。例如:

先进的标准MRS叶片

 

与原始设备制造商(OEM)标准件相反,我们建立的是在几乎呈直角时,离子束以最大力所冲击的区域。产生只有小角度的,主要受到化学反应和热反应影响边缘区域。 结果:离子注入时,磨损更小。

在制造具有极小尺度结构的电气元件时,材料纯度发挥着至关重要的作用。因此,我们需要对材料进行充分利用,并使用特别坚硬和耐用的石墨来制造更换件。 结果:在整个过程中,磨损更小,且减少了颗粒的形成。

为客户带来的利益:先进标准MRS叶片的使用寿命是常规OEM型号的3倍。

符合OEM标准的MRS叶片具有更长使用寿命的先进标准MRS叶片

 

具有更长使用寿命的先进标准MRS叶片

IIT 2012(国际离子注入技术大会)
6月25到29日
会议中心,巴利亚多利德(西班牙)

美国西部半导体展(Semicon West)
7月10到12日
莫斯康展览中心,旧金山(加利福尼亚州)

欲了解更多信息,请与我们的IIP团队联系:
ionimplantation@plansee.com
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