Schnelle Ionen und heiße Prozesse

Wenn Anwender über ihre Erfahrungen berichten, entstehen neue Ideen für die Halbleiterindustrie. Im September trafen sich Praktiker, Forscher, Anlagenhersteller und Zulieferer bei Plansee in Reutte/Österreich.

Das Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie in Erlangen steuert mehrere Nutzergruppen. Seit 1987 gibt es die Nutzergruppe Ionenimplantation. Die Nutzergruppe Heißprozesse ist seit 15 Jahren aktiv. Ende September trafen sich beide bei uns in Reutte. Von unterschiedlichen Heizprozessen bis hin zum Strahlenschutz in der Ionenimplantation reichten die Vorträge der Experten aus Forschung und Praxis. Plansee rundete das vielfältige Programm mit einer Führung durch die Produktionsanlagen für Refraktärmetalle ab.

Uns ist der enge Austausch mit unseren Kunden und anderen Experten in der Halbleiterindustrie besonders wichtig. Seit vielen Jahren sind wir Mitglied in der Nutzergruppe Ionenimplantation. Schließlich sind im Strahlengang einer Implanteranlage über hundert unserer Komponenten zu finden. Um mit unseren Materialien Herstellprozesse günstiger und effizienter zu gestalten, hören wir genau hin, wenn Anlagenbetreiber und Forschungseinrichtungen in den Nutzergruppen über ihre Herausforderungen berichten. Oft genügt ein passenderes Material oder eine leicht geänderte Form und schon helfen wir unseren Kunden, Geld und Zeit zu sparen.

Unsere Experten für die Halbleiterindustrie gaben Einblicke in Unternehmen und Produkte von Plansee(von links nach rechts):

Peter Aldrian beginnt mit einem Überblick zu unserem Unternehmen.
Dr. Thomas Werninghaus stellt unsere Advanced-Standard-Produkte für die Ionenimplantation vor.
Harald Selb spricht über Komponenten für MOCVD und metallische Wafer für die LED-Herstellung.

Erfahren Sie mehr über unsere Produkte für die Ionenimplantation und über die Nutzergruppen von Fraunhofer IISB.