Gute Leitung. Sputtertargets aus Kupfer.

Kupfer Sputtertarget
Qualitätskontrolle unserer Kupfertargets in Reutte in Österreich

Wegen seiner hohen elektrischen Leitfähigkeit kommt Kupfer verstärkt in großformatigen, hochauflösenden TFT-LCD Fernsehern zum Einsatz. Kupfer dient als Elektrodenschicht im Dünnfilmtransistor. Die Kupferschicht steuert die einzelnen Bildpunkte (Pixel) an und ist so für eine gute Bildqualität verantwortlich.

Das Wichtigste auf einen Blick
Dichte [%] > 99,9 (8,96 g/cm3)
Reinheit [%] > 99,99 (4N)
elektrischer Widerstand [µΩ·cm] 1,69
thermische Leitfähigkeit [W/(m·K)] 408

Lupenrein.

Verunreinigungen im Sputtertarget beeinträchtigen die elektrische Leitfähigkeit des Materials. Besonders kritisch sind Verunreinigungen aus Titan, Phosphor, Calzium, Eisen, Chrom und Selen. Diese Metalle sind in unseren Kupfertargets in geringsten Mengen enthalten. Ihre Konzentration liegt weit unter den kritischen Grenzwerten.

Diagramm Kupfer Sputtertarget
Kaum zu erkennen: Typische Verunreinigungs-Konzentrationen unserer Kupfertargets.

Maximal dicht.

Unsere Kupfer-Sputtertargets sind durch spezielle Herstellverfahren nahezu 100 % dicht. Die Vorteile für Ihren Prozess sind eine besonders gute Leitfähigkeit und Zeitgewinn durch hohe Sputtergeschwindigkeiten.

Gut strukturiert.

Die Mikrostruktur unserer Kupfertargets ist besonders feinkörnig. Damit garantieren wir Ihnen einen gleichmäßigen Abtrag und eine geringe Neigung zur Partikelbildung während des Sputterprozesses.

Mo/Cu Nassätzen in einem Schritt.

In Elektrodenschichten kommt Kupfer in der Regel in Kombination mit einer Adhäsionspromotionsschicht / Diffusionsbarriere aus Molybdän zum Einsatz.Zur Strukturierung der Mo-Cu-Mehrlagenschichten (Multilayers) haben wir in Zusammenarbeit mit der Korean Aerospace University und führenden Chemikalienherstellern einen neuen Ätzprozess entwickelt.

Ihre Vorteile:

  • Frei von Wasserstoffperoxid
  • Umweltfreundlich und nicht explosiv
  • Kann in Standard-Aluminiumätzanlagen verwendet werden

Sie wollen die perfekte Schicht? Wir regeln das.

Soviel ist sicher: Im PVD-­Prozess muss alles zusammen­passen. Nur wenn alle Prozess­parameter perfekt aufeinander abgestimmt sind, entsteht die Schicht, die genau Ihren Anforderungen entspricht. In unserem PVD-Applikations­labor sputtern wir unter praxis­­nahen Bedingungen. Unser Entwickler­team erzeugt hier Schichten und analysiert sie genau nach Ihren Vor­gaben. So entstehen in Kooperation mit Ihnen und zahlreichen Entwicklungs­instituten immer neue Beschichtungswerkstoffe bei minimalen Entwicklungs­zeiten.

Der beste Beweis für unsere Expertise sind wir selbst. Wir beschichten viele unserer Produkte wie Halb­leiter­­basis­­platten und Drehanoden im eigenen Haus und setzen die Beschichtungs­prozesse PVD, CVD, APS und VPS ein.

PVD-Applikationslabor
In unserem PVD-Applikationslabor sputtern wir unter praxisnahen Bedingungen. Unser Entwicklerteam erzeugt hier Schichten und analysiert sie genau nach Ihren Vorgaben.
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