WNi-Sputtertargets zur Herstellung elektrochromer Schichten.

Zur Herstellung elektrochromer Schichten in Smart Windows liefert Plansee die passenden Wolfram-Nickel-Sputtertargets. Unsere Kunden stellen daraus durch reaktives Sputtern die elektrochrome WNi-Oxidschicht für sogenannte Smart Windows her. Im Normalzustand ist diese Schicht farblos und transparent. Unter Gleichspannung wird sie blau - und ist damit für bestimmte Wellenlängen des Lichts weniger transparent.

Sputtertarget WNi

Homogenität und Dichte: Was Sie bei Sputtertargets beachten sollten.

Herkömmliche Wolfram-Nickel-Targets werden durch Spritzverfahren hergestellt. Der Nachteil: Nickel ist nicht überall gleichmäßig verteilt und die Materialdichte liegt bei gespritzten-Targets meist nur bei unter 90% Was heißt das für den Kunden?

Ungleichmäßig verteiltes Nickel führt zu ferromagnetischen Bereichen aus reinem Nickel. Sie beeinträchtigen das Sputterverhalten und beeinflussen die Qualität der elektrochromen Schicht.

Und die geringe Materialdichte limitiert die mögliche Stärke des Sputtertargets auf nur 5-6 mm. Das bedeutet für Kunden einen häufigen Austausch des Sputtertargets. Unsere Wolfram-Nickel-Sputtertargets stellen wir pulvermetallurgisch her. Alle Schritte vom Metallpulver bis zum fertigen Produkt decken wir im eigenen Haus ab. Mit einer Dichte von über 99,5 % lassen sich aus unserem Material bis zu 18 mm starke Sputtertargets fertigen. Anwender beschichten damit 2-3 Mal länger als mit herkömmlichen Targets und sparen sich einen häufigen Austausch des Targets.

Unser Herstellprozess führt zu einer besonders homogenen und dichten Mikrostruktur. Das sehen Sie auch in dieser lichtmikroskopischen Aufnahme eines WNi-Sputtertargets von Plansee: Reines Wolfram (dunkelgrau) in einer Matrix aus W-Ni-Verbindungen. Wichtig ist aber, was Sie nicht sehen: freies Nickel. Sondern eine Mikrostruktur komplett ohne ferromagnetische Phasen.

Mikrostruktur Wolfram-Nickel

Sie können es drehen und wenden: Über das gesamte Target hinweg ist Nickel sehr homogen verteilt. Der Nickelgehalt schwankt um höchstens +/- 0,5 Gewichtsprozent um den gewünschten Mittelwert. Ein ausgezeichneter Wert.

Die wichtigsten Eigenschaften unserer Wolfram-Nickel Targets
Dichte (bei 20 °C) ≥ 99,5 der theoretischen Dichte
Reinheit > 99,97 wt % (3N7)
Homogenität der Nickelverteilung < +/- 0,5 wt.%
Nickelgehalt 25 bis 55 wt.%
Mikrostruktur feinkörnig, gleichmäßig

Zum Patent angemeldet.

Zum Patent angemeldet.

Unsere Herstellung von WNi-Sputtertargets haben wir bereits zum Patent angemeldet.

 

 

 

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