Perfectamente metalizado. Cátodos para sputtering de aluminio.

El aluminio tiene una conductividad eléctrica muy alta. Junto con el molibdeno, se utiliza para el metalizado en transistores de película fina para monitores LCD TFT, televisores y pantallas de teléfonos móviles.

Los principales detalles en un vistazo
Densidad [g/cm3] > 2,70
Pureza [%] > 99,999 (5N)
dureza [HV1]16
Conductividad térmica [W/(m·K)]238

Alta pureza.

Con una pureza de 5N, nuestros cátodos para sputtering de aluminio son simplemente los mejores. ¿Por qué es esto importante para nosotros? Las impurezas en cátodos para sputtering merman la conductividad del material. Las partículas de cromo, manganeso, magnesio, silicio, hierro y estaño son especialmente críticas. Pero no hay motivo de alarma. Cualquier contenido de impurezas residuales es mínimo. Solo aparecen en concentraciones netamente inferiores a los umbrales críticos.

Pureza cátodos para suttering de aluminio
La concentración típica de impurezas

Microestructura homogénea

Nuestros cátodos de aluminio tienen una microestructura con un grano particularmente fino. Esto le asegura una erosión uniforme y una reducida susceptibilidad a la formación de partículas durante el proceso de sputtering.

Superficie de alta calidad.

El aluminio es un material particularmente blando. Para garantizar que las superficies de nuestros cátodos de aluminio le lleguen en perfectas condiciones, procedemos con un cuidado especial durante el mecanizado y empaquetado de nuestros productos.

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