Cátodo de sputtering de MoTa. Resistencia extraordinaria a la corrosión.

Por su buena adherencia en vidrio y su elevada conductividad eléctrica, el molibdeno se utiliza como material para capas de electrodo en transistores de película fina (TFT-LCD) y sensores táctiles (paneles táctiles).

Durante el proceso de producción y en el uso como componente en las futuras pantallas, estas capas están expuestas a la humedad ambiental y al sudor de las manos del usuario. La respuesta a la corrosión: soluciones de molibdeno-tántalo de Plansee.

Cátodos MoTa

Cátodo de sputtering de MoTa. Resistencia extraordinaria a la corrosión.

Los datos más relevantes
Densidad [%] ≥ 99.5
Pureza [%] > 99.97
Coeficiente de expansión térmica [ppm/K] 5.34
Conductividad térmica [W/(m·K)]97
Conductividad eléctrica [MS/m]13
Microestructura grano fino, homogenea
Cátodos para sputtering de alta calidad

Alta densidad.

Utilizamos procesos de conformado en caliente para compactar nuestros cátodos para sputtering de MoTa hasta el 99,5% e incluso más. La ventaja para usted: conductividad especialmente alta en la capa y sputtering rápido por las tasas de deposición elevadas.

Pureza extraordinaria.

Eventuales impurezas metálicas y gaseosas en el cátodo para sputtering se reproducen prácticamente 1:1 en la capa funcional aplicada, con el resultado de una formación de partículas durante el proceso de PVD. Garantizamos que nuestros cátodos de MoTa tengan una pureza mínima del 99,97 %.

Resistencia a la corrosión insuperable.

Dopamos el molibdeno puro con pequeñas cantidades de tántalo, un elemento extremadamente resistente a la corrosión. Esto nos permite combinar las propiedades ventajosas de ambos metales. MoTa ya ha demostrado su resistencia a la corrosión en numerosos ensayos.

Películas finas grabadas (grosor: 300 nm) de molibdeno y MoTa después de diferentes tiempos de exposición a 60 °C y con una humedad relativa del 90 %:

Molibdeno-Tántalo
Molibdeno
Exposición: 0 h
Molibdeno-Tántalo
Molibdeno
Exposición: 50 h
Molibdeno-Tántalo
Molibdeno
Exposición: 100 h
Molibdeno-Tántalo
MoTa
Exposición: 0 h
Molibdeno-Tántalo
MoTa
Exposición: 50 h
Molibdeno-Tántalo
MoTa:
Exposición: 100 h

Resultados de grabado fiable.

El MoTa es particularmente rápido y fácil de estructurar. El ángulo de conicidad del MoTa es de 45°. En cambio, con 90°, este ángulo es muy empinado en los productos de la competencia que ofrecen un nivel de resistencia a la corrosión similar. Las capas funcionales aplicadas a continuación no son capaces de cubrir de forma óptima estas fuertes inclinaciones. En consecuencia se pueden producir fisuras y cortocircuitos.

Calidad perfecta de un único proveedor.

Somos el único fabricante de cátodos para sputtering que realiza todas las etapas del proceso de producción en la propia empresa. Desde la materia prima hasta el producto acabado, incluyendo el desarrollo de nuevos materiales y la optimización de nuestros métodos y materiales de recubrimiento.

Óxido
Reducción
Mezcla
Aleación
Comprimimos nuestros polvos de metal y mezclas de polvo con unas presiones de hasta 2 t/cm² (toneladas por centímetro cuadrado) para formar una denominada pieza en verde. Cuando se piden unos productos finales con una geometría especialmente exigente,
Prensado
Sinterización
Forming
calor
tratamiento
Mecánico
tratamiento /
unión
Calidad
garantía
Reciclaje

La sinterización es la piedra angular de nuestro proceso de producción pulvimetalúrgico. Es el método que utilizamos para fabricar componentes metálicos compactos a partir de piezas brutas de polvo porosas. Con la mayor línea de laminación en caliente para metales refractarios producimos cátodos planos de máxima densidad. Empleamos unos procesos de conformado especiales para fabricar nuestros cátodos rotatorios.

¿Busca el recubrimiento perfecto? Nosotros lo creamos.

En el proceso de PVD, todo debe encajar perfectamente. Solo armonizando plenamente todos los parámetros de proceso es posible crear el recubrimiento que corresponda exactamente a sus necesidades. En nuestro laboratorio de aplicación PVD realizamos el sputtering en condiciones prácticamente reales. Allí, nuestro equipo de desarrolladores crea recubrimientos y realiza análisis exhaustivos en base a sus especificaciones. Esta colaboración con usted y con numerosos institutos de desarrollo nos permite reducir al mínimo el tiempo necesario para el desarrollo de nuevos materiales de recubrimiento.

La mejor demostración de nuestras habilidades somos nosotros mismos. En nuestra propia empresa realizamos el recubrimiento de muchos de nuestros productos, por ejemplo placas base para semiconductores y cátodos de rayos X, empleando los procesos de recubrimiento PVD, CVD, APS y VPS.

Laboratorio de aplicación PVD
En nuestro laboratorio de aplicación PVD realizamos el sputtering en condiciones prácticamente reales. Allí, nuestro equipo de desarrolladores crea recubrimientos y realiza análisis exhaustivos en base a sus especificaciones.
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