Nouvelle source GSD de Plansee : refonte intégrale pour un bienfait total.

La GSD est un système d'implanteur répandu d'Axcelis. Plansee approvisionne les sources approprées d'implanteurs pour toutes les générations de systèmes GSD. Les commentaires de nombreux utilisateurs au cours des dernières années ont montré que la source standard était matière à beaucoup d'améliorations. Ainsi Plansee a amélioré la source en augmentant sa durée de vie et son efficacité. Cette nouvelle conception lui permet d'être utilisée dans les sytèmes existants sans difficultés.

"Les demandes répétitives et les commentaires des opérateurs de système ont révélé des zones de composants individuels à améliorer pour augmenter la durée de vie de la source d'implanteur GSD." explique Kevin Chivatakarn de Plansee Electrograph en California. "Au lieu d'améliorer les composants individuellement quand le besoin se fait sentir, nous avons repensé l'ensemble de la source. Le résultat est une source GSD entièrement optimisée dans laquelle toutes les mesures prises fonctionnent en parfaite harmonie" poursuit-il. Les ingénieurs de Plansee ont mis en place un grand nombre de changements visant à améliorer la source d'implanteur GSD. Un focus a été fait sur le "cycle d'halogène."

Réduction du cycle d'halogène

 

Dans une source plasma à ions, les atomes de fluor réagissent avec le tungstène pour former des halogénures de tungstène. Ces molécules se dédoublent aux hautes températures et le tungstène est déposé sur des pièces plus froide de la source d'ions. Ce cycle d'halogène fait éroder rapidement les composants en tungstène de la source d'ions et il en résulte des dépôts plus importants de tungstène dans les zones froides de la source. Ces conséquences en résumé peuvent faire échouer le fonctionnement de la source. Les différentiels à haute température sont des points importants d'un cycle d'halogène.


Ainsi, un objectif important de la nouvelle conception était de réaliser une distribution homogène de la température. Dans la nouvelle source nouvellement conçue, Plansee utilise des alliages des métalliques spéciaux qui permettent à des endroits spécifiques de maintenir la distribution stable de la température. Par exemple, le cycle d'halogène est significativement réduit lorsque le tungstène est remplacé par du tungstène-lanthane (WL) dans les zones plus froides de la source. En plus des propriétés thermiques du matériau, le WL a un avantage supplémentaire, à savoir, sa résistance à l'érosion par plasma.

Moins de dépôt de matériau et de perte de gaz

 

En parallèle du cycle d'halogène, le dépôt de matériau autour de la chambre représente un défi important. Cela se produit quand des particules des composants s'échappent de la chambre et se déposent sur des composants d'isolation. Plansee a modifié la conception de la cathode afin de réduire le dépôt de matériau aux emplacements critiques de la chambre. La conception réduit non seulement des dépôts de matériau mais aussi la perte de gaz de la chambre ayant pour conséquence des réductions de coûts pour les opérateurs du système.

 

Installation simplifiée

 

Même le "repeller" a fait l'objet de retouches. Plansee a transformé de nombreux composants en montage simple de quatre parties, facile à installer et à remplacer. D'ailleurs, la nouvelle conception est non seulement plus facile à manipuler mais elle rend également les conduits de gaz plus longs, un facteur supplémentaire contribuant à une réduction des pertes de gaz.

En outre, le système d'autoréglage établit automatiquement un écartement optimal entre la cathode et la bobine, ce qui rend encore plus facile l'installation du système.

 

La nouvelle source GSD de Plansee est extrêmement adaptable. Plansee propose différentes épaisseurs de cathodes et de "repeller", et la source est disponible en version vaporiseur ou non-vaporiseur pour es opérations à courant fort et à courant faible. Elle peut être utilisée dans des systèmes actuels et intègre la norme de montage GSD.


"Le résultat est que notre conception augmente la durée de vie de la source et limite les interventions de maintenance," explique Kevin Chivatakarn. "Notre système améliore la répartition de température dans la chambre, permet de concentrer de façon plus précise le faisceau plasma, utilisant moins de gaz du procédé tout en permettant d'économiser l'énergie en raison des densités plus élevées de plasma. La stabilité du processus est également améliorée ce qui facilite le réglage du système. Bien qu'il existe plusieurs autres détails avantageux supplémentaires que je pourrais mentionner, nous préférons décrire les nombreux avantages de notre système à nos clients face à face." Chivatakarn et ses collègues sont impatients de répondre à toutes vos requêtes.

 

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