サンディエゴのICMCTF 2018でお待ちしております。

ICMCTFは最先端の薄膜形成や表面処理が議論される権威ある国際会議です。プランゼーは同会議に参加し、新製品の展示並びにプレゼンテーションを行います。

以下のプレゼンテーションとポスターセッションにおいて発表を行います。

  • (B5-1-1)ボロンがTiNの機械的特性に及ぼす影響(特に破壊靱性について) :
    R. Hahn、CDL-AOS、ウィーン工科大学、オーストリア; M. Bartosik、A. Tymoszuk、ウィーン工科大学、オーストリア; P. Polcik、Plansee Composite Materials GmbH、ドイツ; M. Arndt、Oerlikon Balzers、Oerlikon Surface Solutions AG、リヒテンシュタイン; P.H. Mayrhofer、ウィーン工科大学、オーストリア
  • (B5-2-7)ホウ化ランタンとの合金化によるTi-Al-Nの機械的特性および熱安定性の向上:
    H. Asanuma、Mitsubishi Materials Corporation、オーストリア; P. Polcik、S. Kolozsvari、Plansee Composite Materials GmbH、ドイツ; F.F. Klimashin、H. Riedl、P.H. Mayrhofer、ウィーン工科大学材料科学技術研究所、オーストリア
  • (G6-7)耐高温酸化性TiAl-N / Mo-Si-B多層コーティングにおける酸素拡散について:
    E. Aschauer、CDL-AOS、ウィーン工科大学、オーストリア; P. Felfer、Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg、ドイツ; M. Arndt、Oerlikon Balzers、Oerlikon Surface Solutions AG、リヒテンシュタイン; P. Polcik、Plansee Composite Materials GmbH、ドイツ; H. Riedl、CDL-AOS、ウィーン工科大学、オーストリア; P.H. Mayrhofer、ウィーン工科大学材料科学技術研究所、オーストリア
  • (B6-1)3元ホウ化物薄膜のAb Initio設計:
    V. Moraes、D. Holec、CDL-AOS、ウィーン工科大学、オーストリア; H. Bolvardi、Oerlikon Balzers、Oerlikon Surface Solutions AG、リヒテンシュタイン; P. Polcik、Plansee Composite Materials GmbH、ドイツ; H. Riedl、P.H. Mayrhofer、CDL-AOS、ウィーン工科大学、オーストリア
  • (B1-4-6)直流真空アーク中で使用されるTi-C、Ti-AlおよびTi-Wカソードからのプラズマ生成およびコーティング組成:
    I. Zhirkov、リンショーピング大学、スウェーデン; P. Polcik、S. Kolozsvári、Plansee Composite Materials GmbH、ドイツ; J. Rosen、リンショーピング大学、スウェーデン
  • (BP-9)マグネトロンスパッタリングで成膜されたMo-Si-Bの相安定性に対するTiの影響:
    E. Aschauer、H. Riedl、CDL-AOS、ウィーン工科大学、オーストリア; H. Bolvardi、Oerlikon Balzers、Oerlikon Surface Solutions AG、リヒテンシュタイン; P. Polcik、Plansee Composite Materials GmbH、ドイツ; P.H. Mayrhofer、ウィーン工科大学材料科学技術研究所、オーストリア

また新製品に繋がる以下のトピックの紹介を行います。

  • HEA(高エントロピー合金)
  • ホウ化物系ターゲット材料の新しい世界
  • 金属間化合物系のアルミニウム含有ターゲット

プランゼーは4月23日から27日まで、サンディエゴのTown & Country Hotel & Convention Centerのブース#222において展示を行います。そこで皆様と様々なディスカッションを行えることを楽しみにしています。そして皆様の新しいアイディアに耳を傾け、次世代に貢献するターゲット開発を行いたいと考えております。

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プランゼーはパウダーメタラジーのリーディングカンパニーです。当社では様々な組成や寸法のターゲットを標準在庫しサービスを先鋭化させると共に、高いR&Dの能力で皆様の期待に応えております。