高速イオン法とホット法:セミコン産業のエキスパートがプランゼー本社に勢揃い

ユーザーが各自の経験について報告する機会は、半導体産業における斬新なアイデア創発の刺激になります。去る9月、実務担当者、研究者、装置メーカー・サプライヤーがロイテ(オーストリア)のプランゼー本社に結集しました。

フラウンホーファー集積システムデバイス技術研究所(Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology)(IISB)が、ワーキンググループの管理運営に当たっています。イオン注入(Ion Implantation)ワーキンググループは1987年から設置されています。ホット法(Hot Processes)ワーキンググループはすでに15年活動しています。9月下旬に、プランゼーはロイテで両ワーキンググループの会合を主催しました。研究界・産業界からのエキスパートによって行われたプレゼンテーションは、各種ホット法やイオン注入における放射線遮蔽など、多様なトピックを対象に行われました。プランゼーは高融点金属生産プラントの見学会などの多彩なプログラムを用意しました。

 

半導体産業における当グループ顧客その他のエキスパートとの密接な対話を維持することが決定的に重要であるとプランゼーは考えています。プランゼーはすでに何年にもわたってイオン注入ワーキンググループのメンバーを務めています。別に驚くには当たりません。イオン注入装置のビームラインにプランゼーの部品が100点以上も入っているのですから。プランゼーは材料の有効活用による製造工程のいっそうの効率化と低コスト化を図っている関係で、装置運用者や研究機関がワーキンググループに参加して各自が直面している課題について語り合う際にはご意見を傾聴するように心がけています。たいていは、顧客の時間と費用の節約につながるより適切な材料やちょっとした形状の手直しに関する話題です。

 

プランゼーの半導体産業のエキスパートが当社およびプランゼー製品について見識を示しました(写真左から右)。

まず、Peter Aldrianがプランゼーグループの概要を紹介しました。 Thomas Werninghaus博士は、イオン注入用Advanced-Standard-Productsについて情報を提供しました。 Harald Selbは、MOCVD用部品およびLED生産用金属ウエハーについて説明しました。

詳しくは、プランゼーのイオン注入用製品およびFraunhofer IISBのワーキンググループのウェブページをご覧ください。