鮮明な画質を追求
モリブデンスパッタリングターゲット
モリブデンコーティングは、TFT-LCDスクリーンの薄膜トランジスターの決め手になります。個々の画素（ピクセル）を瞬間的に制御し、その結果、鮮明な画質を保証します。 モリブデン層はCIGS太陽電池の背面電極にも使用されています。
しかしモリブデン薄膜はどのように生産されるのでしょうか。
マグネトロンスパッタリング法では、金属微粒子をスパッタリングターゲットから蒸発させ、ガラス基板に薄膜として付着させます。この高速で経済的なコーティングプロセスでは、すべての材料が最高の品質基準に叶うはずです。プランゼーのモリブデンスパッタリングターゲットにおまかせください。
高純度を保証
プランゼーのターゲットは高純度を保証します。何より重要なそのメリットは、薄膜が安定して適切な電気伝導性を持ち、PVDプロセスにおいてパーティクル形成が最小限に抑えられる点です。スパッタリングターゲットに金属や気体の不純物が多く含有していると、スパッタリングにて形成された膜にもほぼ1:1の確率でそれが再現され、PVDプロセス中のパーティクル形成につながります（アーキング）。
プランゼーのモリブデンターゲットは純度99.97%以上を保証しております。また、実力値としては99.99%で、標準的な酸素含有量は6ppmです。この値は他社と比較すると、非常に少ない事がおわかりになると思います。プランゼーのモリブデンターゲットはTFT-LCDのあらゆる画素が最適に制御され、さらにCIGS型太陽電池の背面電極が完全に機能することを確実にします。
高密度均質な組織構造
プランゼーのモリブデンスパッタリングターゲットは、密度がほぼ100%です。そのため、スパッタリング時間が短縮され、プロセス速度を上げることができます。モリブデンターゲットの密度が高くなればなるほど、生成される層の導電性もより適切になるからです。
プランゼーの生産プロセスは柔軟性が高く、コーティング材料の微細構造を調整し、お望みの結果を実現することができます。スパッタリングターゲットの結晶方向が揃っているとエロージョン速度にばらつきが出ず、均質な膜を形成することができます。
最適なコーティングの追求
PVDプロセスでは、あらゆる要素が最適にかみ合わなければなりません。すべてのプロセスパラメーターが十分に調和したときに初めて、皆様のご希望に合ったコーティングが得られます。プランゼーのPVD研究ラボでは、現実の環境に近い条件でスパッタリングリングを行います。ここではプランゼーの開発チームが皆様の仕様に基づいてコーティングを生成し、徹底的に分析を行います。当社では、お客様はもとより、多くの開発機関とも幅広く協力していますので、新しいコーティング材料の開発期間を最小限に短縮することができます。
当社のコーティング技術は、当社の他製品にも使われています。プランゼーではPVD、CVD、APS、VPSコーティングプロセスを用いて半導体基板、X線ターゲットなどの自社製品を社内でコーティングしています。
平面モリブデンターゲット
20年以上にわたり、プランゼーの材料はTFTディスプレイ用途として、その価値を実証
してきました。
- 高純度
- 最高の密度
- 均質な微細構造
シングルピースまたはマルチピースのターゲットにおいて、ボンディングもいたします。一般的なシステム用の標準ターゲットばかりでなく、お客様特有のニーズに合わせた平面スパッタリングターゲットも製造いたします。
円筒型モリブデンターゲット
資源は無駄にせず、使えるだけ使いたいものです。プランゼーの円筒型ターゲットでは、ターゲット材料の75%以上を利用し、交換サイクルを長くすることができます。リサイクル可能な鋼またはチタンのバッキングチューブで長さ4mまでの円筒型ターゲットを製造可能です。
また、バッキングチューブを必要としない一体型の円筒型ターゲットもございます。これは温度に対してより許容性が優れ、30kW/mまでの高出力密度でもスパッタリングすることができます。
一体型ロータリーターゲットに内径コーティング
コスト削減をお考えですか？新しくご提案できるものがございます。一体型ロータリーターゲットにおいてポリマーベースの内径コーティングは如何でしょうか。詳しくはこちらからご覧ください。
一貫生産がもたらす最高品質
プランゼーは、製品の製造をすべて社内で行っています。原料から最終製品まで、新しい材料の開発。焼結は粉末冶金生産工程の要となる、メタルパウダーを圧粉して金属インゴットにする工程です。プランゼーでは、世界最大の高融点金属用熱間圧延機を導入し、最高密度の平面ターゲットを生産しています。円筒型ターゲットの製造には、特殊な成形工程を用いています。
