高い導電性、銅スパッタリングターゲット

銅スパッタリングターゲット
オーストリアのロイテでの当社の銅ターゲットの品質検査

銅は電気伝導度が高いので、大型・高解像度のTFT-LCDテレビでよく使われるようになってきています。銅は薄膜トランジスターの電極層として使われます。銅の層が個々の画素(ピクセル)を制御し、画質を決定します。

主な特性一覧
密度 [%] > 99,9 (8,96 g/cm3)
純度[%] > 99,99 (4N)
電気抵抗[μΩ・cm] 1.69
熱伝導率[W/(m•K)] 408

高純度

スパッタリングターゲット中に含まている不純物は材料の導電性を阻害します。チタン、リン、カルシウム、鉄、クロム、セレンなどの不純物は、とくに禁物です。プランゼーの銅ターゲットには、これらの金属がごく少量しか含まれていません。濃度は臨界閾値のはるかに下です。

図:銅スパッタリングターゲット
高純度:当社の銅ターゲットに含まれるごく少々の不純物

密度も最大

特別な生産工程で作られているプランゼーの銅スパッタリングターゲットは、100%近い密度を持っています。その結果、皆様の生産工程でも導電性がひときわ高くなり、成膜速度が上昇して時間が節約できるのです。

優れた構造

プランゼーの銅ターゲットはひときわ粒子の細かい結晶構造になっています。このため、エロージョンが均一に進み、スパッタリングリング中のパーティクル形成の可能性も小さく抑えることができます。

ワンステップMo/Cuウエットエッチング

電極層では、銅は通常、モリブデンの接着層/拡散バリアと組み合わせて使用されます。プランゼーはMo-Cuの積層構造を作るため、韓国航空大学や有力な化学メーカーと共同で研究し、新しいエッチングプロセスを開発しました

お客様のメリット

  • 過酸化水素を含まない
  • 環境にやさしく、爆発性もない
  • 標準的なアルミエッチング設備に適している

最適なコーティングの追求

PVDプロセスでは、あらゆる要素が最適にかみ合わなければなりません。すべてのプロセスパラメーターが十分に調和したときに初めて、皆様のご希望に合ったコーティングが得られます。プランゼーのPVD研究ラボでは、現実の環境に近い条件でスパッタリングリングを行います。ここではプランゼーの開発チームが皆様の仕様に基づいてコーティングを生成し、徹底的に分析を行います。当社では、お客様はもとより、多くの開発機関とも幅広く協力していますので、新しいコーティング材料の開発期間を最小限に短縮することができます。

当社のコーティング技術は、当社の他製品にも使われています。プランゼーではPVD、CVD、APS、VPSコーティングプロセスを用いて半導体基板、X線ターゲットなどの自社製品を社内でコーティングしています。

PVD研究ラボ
プランゼーのPVD研究ラボでは、現実の環境に近い条件でスパッタリングリングを行います。<br/>ここではプランゼーの開発チームが皆様の仕様に基づいてコーティングを生成し、徹底的に分析を行います。
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