高い導電性、銅スパッタリングターゲット
銅は電気伝導度が高いので、大型・高解像度のTFT-LCDテレビでよく使われるようになってきています。銅は薄膜トランジスターの電極層として使われます。銅の層が個々の画素（ピクセル）を制御し、画質を決定します。
| 主な特性一覧 | |
|---|---|
| 密度 [%] | > 99,9 (8,96 g/cm3) |
| 純度［%］ | > 99,99 (4N) |
| 電気抵抗［μΩ・cm］ | 1.69 |
| 熱伝導率［W/（m•K）］ | 408 |
高純度
スパッタリングターゲット中に含まている不純物は材料の導電性を阻害します。チタン、リン、カルシウム、鉄、クロム、セレンなどの不純物は、とくに禁物です。プランゼーの銅ターゲットには、これらの金属がごく少量しか含まれていません。濃度は臨界閾値のはるかに下です。
密度も最大
特別な生産工程で作られているプランゼーの銅スパッタリングターゲットは、100%近い密度を持っています。その結果、皆様の生産工程でも導電性がひときわ高くなり、成膜速度が上昇して時間が節約できるのです。
優れた構造
プランゼーの銅ターゲットはひときわ粒子の細かい結晶構造になっています。このため、エロージョンが均一に進み、スパッタリングリング中のパーティクル形成の可能性も小さく抑えることができます。
ワンステップMo/Cuウエットエッチング
電極層では、銅は通常、モリブデンの接着層/拡散バリアと組み合わせて使用されます。プランゼーはMo-Cuの積層構造を作るため、韓国航空大学や有力な化学メーカーと共同で研究し、新しいエッチングプロセスを開発しました。
お客様のメリット
- 過酸化水素を含まない
- 環境にやさしく、爆発性もない
- 標準的なアルミエッチング設備に適している
最適なコーティングの追求
PVDプロセスでは、あらゆる要素が最適にかみ合わなければなりません。すべてのプロセスパラメーターが十分に調和したときに初めて、皆様のご希望に合ったコーティングが得られます。プランゼーのPVD研究ラボでは、現実の環境に近い条件でスパッタリングリングを行います。ここではプランゼーの開発チームが皆様の仕様に基づいてコーティングを生成し、徹底的に分析を行います。当社では、お客様はもとより、多くの開発機関とも幅広く協力していますので、新しいコーティング材料の開発期間を最小限に短縮することができます。
当社のコーティング技術は、当社の他製品にも使われています。プランゼーではPVD、CVD、APS、VPSコーティングプロセスを用いて半導体基板、X線ターゲットなどの自社製品を社内でコーティングしています。
