Реактивное магнетронное распыление

Покрытие на основе твердого материала и декоративное покрытие на основе алюминия, титана, циркония, хрома и керамики применяются (распыляются) к инструментам, комплектующим и другой продукции с использованием процесса реактивного магнетронного напыления.

Внутри вакуумной камеры материал покрытия размещается напротив того изделия, на которое наносится покрытие. Камера наполняется газообразным аргоном, и подается напряжение в несколько сотен вольт. В результате зажигается плазма, состоящая из чистого аргона, положительно заряженных частиц аргона (ионов аргона) и свободных электронов. Положительно заряженные ионы аргона ускоряются в направлении отрицательно заряженного катода. Здесь они сталкиваются с поверхностью мишени с высокой кинетической энергией, достигающей нескольких сотен электрон-вольт (эВ). Частицы аргона выбивают атомы с поверхности мишени для распыления. Теперь между вакуумной камерой и подложкой создается потенциал. Частицы твердого материала ускоряются в направлении изделия, на которое наносится покрытие. Здесь они вступают в реакцию с подаваемым в камеру реактивным газом (азот, углерод или кислород) и осаждаются на изделии в виде тонкого слоя нитридного, карбидного или оксидного твердого материала.