同质性和密度:溅射靶需要考虑的因素
用于智能玻璃的钨合金的一个例子是钨镍溅射靶。传统的钨镍靶采用喷涂工艺生产。这种工艺的缺点是镍元素整体分布不均匀,并且喷涂靶材的材料密度范围通常 < 95%< 95%.>。
但这对用户意味着什么?不均匀分布的镍会在溅射靶中产生纯镍的铁磁性区域。由于溅射速率不均匀或化学成分有偏差,这些铁磁性区域会削弱溅射性能并影响电致变色层的质量。
低材料密度将溅射靶的可能强度限制为仅几毫米的可用材料,从而导致溅射靶的频繁更换。我们采用粉末冶金工艺生产钨镍溅射靶。从金属粉末到成品,生产过程的每一步都由我们的工厂内部完成。使用我们的材料所生产的溅射靶密度在 95% 以上,厚度可达到 18mm。溅射靶的耐用性保证了其在整个应用过程中具有更长的使用寿命。因此,不再需要频繁更换靶材。