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钨镍溅射靶

用于智能玻璃的钨合金溅射靶

我们提供合适的钨和钨合金溅射靶,可用于生产智能窗户中的电致变色层。我们的客户使用这些靶材,通过反应溅射工艺来生产智能窗户的电致变色氧化钨和钨合金氧化物层。在正常状态下,电致变色层是无色透明的。在直流电压下,电致变色层会变成蓝色,因此对于某些波长的光而言,电致变色层的透明度会降低。通过向纯氧化钨层添加其他元素(例如,镍、钼、钛、钽),可以影响可切换层的各种特性,例如电阻、切换时间和光学外观。

优势一览:

  • 纯度高
    > 99.97%

  • 同质微观结构和化学成分

  • 合金含量可变

同质性和密度:溅射靶需要考虑的因素

用于智能玻璃的钨合金的一个例子是钨镍溅射靶。传统的钨镍靶采用喷涂工艺生产。这种工艺的缺点是镍元素整体分布不均匀,并且喷涂靶材的材料密度范围通常 < 95%< 95%.。

但这对用户意味着什么?不均匀分布的镍会在溅射靶中产生纯镍的铁磁性区域。由于溅射速率不均匀或化学成分有偏差,这些铁磁性区域会削弱溅射性能并影响电致变色层的质量。

低材料密度将溅射靶的可能强度限制为仅几毫米的可用材料,从而导致溅射靶的频繁更换。我们采用粉末冶金工艺生产钨镍溅射靶。从金属粉末到成品,生产过程的每一步都由我们的工厂内部完成。使用我们的材料所生产的溅射靶密度在 95% 以上,厚度可达到 18mm。溅射靶的耐用性保证了其在整个应用过程中具有更长的使用寿命。因此,不再需要频繁更换靶材。

钨镍溅射靶微观结构

我们的生产工艺会产生破具同质性和高密度的微观结构。这可以从以下钨镍溅射靶光学显微图像中看出:纯钨(深灰色)嵌在钨镍化合物基体中。然而,重要的是,不存在游离镍。微观结构不包含任何铁磁相。

镍在整个靶材中的分布极其均匀。镍含量在所需平均值附近波动的最大值为 +/-0.5%(重量百分比)。

我们钨镍靶材最重要的特性
密度(20℃ 时) ≥ 95% 的理论密度
纯度 > 99.97 wt% (3N7)
镍分布的均匀性 <+/>0.5 wt%
镍含量 25 wt% 到 55 wt%
微观结构 均匀的细晶粒

我们已为钨镍溅射靶的生产和特性申请了专利。在一些国家/地区,它们已经受到专利保护。

涂层应用示例:

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