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Crスパッタリングターゲット

クロム製スパッタリングターゲットとカソード

クロム(Cr)と窒化クロム(CrN)は、硬質材料層として、ピストンリングなどのエンジン部品を急速な摩耗から最適に保護し、重要コンポーネントの寿命を延ばします。また、バケットタペットなどのコンポーネントでは、DLC(Diamond Like Carbon)コーティングの接着層としてクロムが使用されています。また、弊社のクロムは、時計や電子機器、制御素子など、さまざまな製品の装飾層として使用され、輝かしい輝きを放っています。

一目でわかるターゲットの優位性:

  • 最適化されたデザイン

  • ボンディングの可能性

  • 最適で均一な微細構造

  • 最高の素材の純度

お客様のご要望に応じた生産

弊社では、クロム製の管状カソード、円形カソード、または平面状のスパッタリングターゲットを提供しています。これらは、高純度(HP)と超高純度(UHP)の品質レベルで提供されています。

一目でわかる最も重要な情報:

クロム UHP HP
金属の純度 [%] 99.95 99.8
金属不純物 [μg/g] Fe
Si
その他
300
100
150
1500
500
400
非金属不純物 [μg/g] O
N
C
300
200
100
1,000
200
300
保証密度 [g/cm3] 7.12 7.12
粒の大きさ [µm] 100 100
熱伝導率 [W/(m·K)] 最大 250 最大 150
熱膨張係数 [1/K] 7 · 10-6 7 · 10-6

信頼できる品質

最高品質のための卓越した材料純度
Cr超高純度品の微細構造
プランゼークロムターゲットの微細構造

コーティング材料の純度が高ければ高いほど、ハードマテリアル層の品質は向上します。弊社は、最初から最も純度の高い粉末のみを使用し、これを自社工場で混合することで、最高の材料純度を保証しています。粉末から製品までのすべての工程を監視し、特定の密度、純度、均質な微細構造が保証されたターゲットだけが工場を出るようにしています。

粉末から最終製品まで、すべてをワンストップで提供
プランゼーボンディングショップ

弊社はターゲットメーカーのリーディングカンパニーとして、すべてを自社で行っています。金属粉の混合やプレスから、ターゲットの成形、加工、ボンディングに至るまで、また、コーティングプロセスと層の両方を最適化するための新素材の開発も行っています。もちろん、最先端の測定方法でターゲットの品質をテストしています。

以下のコーティングプロセスに使用可能

確実に分かっていることがあるとすれば、それはPVDコーティングプロセスのすべてが完璧にマッチしていなければならないということです。高品質のスパッタリングターゲット、アークカソード、プロセスパラメータの完璧な相互作用があってこそ、お客様の正確な要求に合った層を作ることができるのです。そのために、お客様や多くの開発機関と協力して、新しいコーティング材料を開発し続けています。

マグネトロンスパッタリング法によるクロムの装飾皮膜。また、耐摩耗性コーティングや接着性コーティングは、アーク蒸着法で製造することができます。

  • マグネトロンスパッタリング

    マグネトロンスパッタリング法(カソードスパッタリング)でモリブデンの薄膜を塗布(スパッタリング)します。真空を利用したコーティングプロセスで、ソースとなる材料はスパッタリングターゲットの形をしています。

    真空チャンバー内で数百ボルトの電圧をかけ、アルゴンガスを入れてプラズマに点火します。このプラズマは、純アルゴン、正電荷を帯びたアルゴン粒子(アルゴンイオン)と自由電子で構成されています。正の電荷を帯びたアルゴンイオンは、電界によって負の電荷を帯びたカソード(ターゲット)に向かって加速されます。数十から数百電子ボルト(eV)という高い運動エネルギーでターゲット表面に衝突します。ビリヤードのように、アルゴン粒子はスパッタリングされたターゲットの原子を表面から押し出します。このようにして、コーティング材はゆっくりと侵食されていきます。ターゲットから放出された原子は、真空チャンバー内を通って対向する基板に向かい、そこで薄層として蒸着されます(浴室の鏡がシャワーを浴びている間に水蒸気で膜を張るようなもの)。

    動画「PVDコーティングの仕組み」へ
  • アーク放電

    アーク放電(アークプロセス)で、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、クロムなどのハードマテリアル層を工具に塗布します。真空を利用したコーティングプロセスで、ソースとなる材料はアークカソードの形をしています。

    真空チャンバー内の陽極と正電荷のアークカソードの間に数百ボルトの電圧をかけ、アークを発生させます。これにより、アークが発生します。アークカソードの上を上下に動き、微量の物質を溶かしたり蒸発させたりします。蒸発したカソード粒子の約90%からプラスに帯電した金属イオンが生成されます。ここで、真空チャンバーと基板の間にバイアス電圧を印加します。これにより、金属イオンはコーティングされるワークに向かって加速します。金属イオンは、導入された反応性ガス(窒素、炭化水素、酸素)と反応し、窒化物、カーバイド、酸化物などの薄いハードマテリアル層としてワークピース上に堆積されます。

個々のスパッタリングターゲットとアークカソードに関する弊社の専門知識

最適な層をお探しですか?弊社の数十年にわたる経験と、化学組成や製造プロセスに関する膨大なデータベースに信頼を置いてください。弊社のチームは、以下の材料特性を改善するために、スパッタリングターゲットとアークカソードを継続的に開発しています。

  • 粒の大きさと微細構造
  • 延性
  • 材料の硬度
  • 耐酸化性
  • 摩擦係数
  • 温度耐性

弊社は、お客様のご要望に合わせて、クロムの混合物にさらに元素を加えて完成させます。お問い合わせはこちら!

スパッタリングターゲット材用のさらなる要素

その他のコーティング技術関連製品

また、黒鉛フォイル、ネジ、ワッシャー、ボルトなどの適切な固定材料を提供し、ターゲットをモリブデンや銅のバッキングプレートに接着することも喜んで行います。これらにより、ターゲットはより安定し、壊れにくくなります。ハンダは通常インジウムを使用していますが、用途に応じて他の材料を使用することもできます。

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