Online ShopMy Plansee
Plansee Group
主页
Online ShopMy PlanseePlansee Group
铬溅射靶

铬溅射靶和阴极

铬 (Cr) 和氮化铬 (CrN) 可作为硬质材料层为活塞环等发动机部件提供最佳保护,防止过早磨损,延长重要部件的使用寿命。对于其他部件,例如斗式挺杆,铬可用作类金刚石碳 (DLC) 涂层的粘结层。另外,在用作装饰层时,铬能用于手表、电子产品、控制元件及其他多种产品中,以产生精美闪耀的光泽。

靶材优势一览:

  • 经优化的设计

  • 可焊合

  • 最优同质化微观结构

  • 最高材料纯度

根据您的特定要求生产

我们提供由铬制成的管状阴极、圆形阴极或平面溅射靶。这些产品可提供高纯度 (HP) 和超高纯度 (UHP) 两个质量级别。

重要信息一览:

UHP HP
金属纯度 [%] 99.95 99.8
金属杂质 [μg/g] Fe
Si
其他
300
100
150
1500
500
400
非金属杂质 [μg/g] O
N
C
300
200
100
1,000
200
300
保证密度 [g/cm3] 7.12 7.12
晶粒度 [µm] 100 100
热导率 [W/(m·K)] 最大 250 最大 150
热膨胀系数 [1/K] 7 · 10-6 7 · 10-6

值得信赖的质量

卓越的材料纯度,确保一流品质
铬超高纯度微观结构
Plansee 铬靶材的微观结构

涂层材料越纯,硬质材料层质量越好。从一开始我们就只使用最精细的粉末,我们在自有设备中混合这些粉末,以确保达到最佳的材料纯度。从粉末到成品,我们对每个步骤进行监控,并确保只出厂密度、纯度和同质微观结构符合要求的靶材。

从粉末到成品靶材,一切同源
Plansee 焊合车间

作为领先的溅射靶制造商,我们自主完成生产工艺的每个步骤。从金属粉末的混合和压实到成形、机加工和焊合靶材,均由我们自主完成,我们还开发新材料以优化涂层工艺和膜层。当然,我们也利用先进的测量方法验证靶材的质量。

可用于以下涂层工艺

我们非常清楚,在 PVD 涂层工艺中,每个部件都必须完美结合。只有合理地结合高质量溅射靶、电弧阴极,并且慎重选择工艺参数,才能创造出准确符合您需要的涂层。这意味着,通过与用户及大量研发机构的合作,我们能够不断开发新型涂层材料。

铬装饰层通过磁控溅射工艺涂覆。还可以通过电弧蒸发工艺来生产耐磨和粘性涂层。

  • 磁控溅射

    钼薄膜通过磁控溅射工艺(阴极溅射)镀制(溅射)。在这种基于真空的涂层工艺中,源材料以溅射靶的形式存在。

    在真空室中通过施加几百伏的电压并充入氩气,点燃等离子体。这些等离子体由纯氩、带正电荷的氩粒子(氩离子)和自由电子组成。带正电荷的氩离子通过电场,朝向带负电荷的阴极(靶)加速。它们以高达几十上百电子伏特 (eV) 的高动能撞击靶材表面,与台球游戏类似,氩粒子会将溅射靶表面的原子撞出表面。这样,涂层材料就逐渐被侵蚀。从靶上释放的原子穿过真空室向相反的衬底移动,并在衬底沉积为薄层(类似于淋浴时,浴室镜子会覆上一层水蒸气)。

    转至“PVD 涂层的工作原理”视频
  • 电弧蒸发

    在电弧蒸发(电弧工艺)期间,工具会被涂上一层基于铝、钛、锆和铬的硬质材料涂层。在这种基于真空的涂层工艺中,源材料以电弧阴极的形式存在。

    在真空室中,在阳极和带正电荷的电弧阴极之间施加几百伏的电压。这会制造出电弧。它在电弧阴极上上下移动,熔化或蒸发最少量的材料。约 90% 的蒸发阴极粒子形成带正电荷的金属离子。现在,对真空室和衬底之间施加偏置电压。这会使金属离子向要涂层的工件加速。在工件上,它们与引入的反应性气体(氮、碳氢化合物或氧)发生反应,并在工件上沉积为一层较薄的氮化物、碳化物或氧化物硬质材料层。

我们的专业知识适用于您的溅射靶和电弧阴极

您在寻找理想的涂层材料吗?我们拥有数十年的经验,以及化学成分和制造工艺的大型数据库,值得您信赖。我们的团队不断进一步开发溅射靶和电弧阴极,以改进以下材料特性:

  • 晶粒度和微观结构
  • 延展性
  • 材料硬度
  • 抗氧化性
  • 摩擦系数
  • 耐温性

我们用更多元素完善我们的铬混合物,以满足您的确切要求。欢迎随时联系我们!

适用于溅射靶材料的其他元素

适用于涂层技术的其他产品

我们也很乐意提供合适的紧固材料,例如石墨箔、螺钉、垫圈和螺栓,并将您的靶材粘结到钼或铜背板上。这些能使我们的靶材更加稳定和坚固。我们通常使用铟作为焊料;但是,我们也可以根据应用使用其他材料。

从网上商店的库存中订购标准靶