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Cátodos de pulverización rotatorios de molibdeno

Cátodos de pulverización rotatorios monolíticos de molibdeno

En la producción de capas de molibdeno para contactos dorsales de CIGS o transistores de película fina en pantallas planas (TFT LCD, OLED), se utiliza material de recubrimiento en forma de cátodos de pulverización hechos de molibdeno. Los cátodos rotatorios monolíticos no tienen tubo de soporte y, por lo tanto, están formados por un 100 % de material de recubrimiento. Con estos cátodos, el rendimiento de pulverización puede aumentar significativamente y, por tanto, se puede conseguir una mayor productividad. En comparación con los cátodos rotatorios adheridos, el mayor rendimiento del material reduce además los costes de fabricación en el proceso de recubrimiento.

Sus ventajas en términos generales:

  • Alta pureza del metal
    > 99, 97 %

  • Alta densidad
    > 99,5 %

  • Microestructura homogénea

  • Posibilidad de una alta producción y un alto rendimiento

Puede descargar aquí las especificaciones de producto:

Especificaciones del cátodo de pulverización rotatorio de molibdeno (monolítico)

Recubrimiento interno para cátodos rotatorios monolíticos

Cátodo de pulverización rotatorio de molibdeno

Cuando se utilizan cátodos monolíticos, el molibdeno entra en contacto directo con el agua refrigerante de la instalación de recubrimiento. Normalmente, el agua refrigerante se prepara con aditivos adecuados, los llamados inhibidores, para el uso de cátodos monolíticos. Estabilizan el pH del agua refrigerante y evitan la corrosión del molibdeno. Un recubrimiento interno a base de polímeros, pendiente de patente, desarrollado especialmente por Plansee para cátodos rotatorios monolíticos, evita el contacto directo entre el material de recubrimiento y el agua refrigerante. Esto supone una gran ventaja, ya que significa que se necesitan muchos menos inhibidores para la producción de células solares CIGS y pantallas TFT LCD, con el consiguiente ahorro de costes. El recubrimiento interno duradero es tan fino que no afecta significativamente a la conductividad térmica del cátodo rotatorio y permite un alto rendimiento de pulverización.

Más información sobre las ventajas de los cátodos de pulverización rotatorios monolíticos:

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