Máxima pureza
Nuestros cátodos cumplen con los requisitos de la más alta pureza. Las principales ventajas son una excelente conductividad eléctrica de la capa y una mínima formación de partículas durante el proceso de PVD. Las impurezas metálicas y no metálicas del cátodo de pulverización se transfieren a la capa funcional pulverizada y, por tanto, perjudican su funcionamiento o conducen a la formación de partículas en el proceso de PVD, lo denominado efecto de arco. Garantizamos que nuestros cátodos de tungsteno tienen una pureza mínima del 99,97 %. La pureza típica de nuestros cátodos de tungsteno es aún mayor, del 99,99 %. De este modo, nos aseguramos de que las capas que producimos cumplan con los requisitos más exigentes, especialmente para su uso en microelectrónica.
Máxima densidad y microestructura homogénea
Los cátodos de pulverización de tungsteno de Plansee son altamente comprimidos mediante procesos especiales de formación. La ventaja del proceso de recubrimiento de PVD son las tasas de recubrimiento homogéneas y la mejora de las propiedades del recubrimiento. El resultado son ventajas de eficiencia y rendimiento en la producción de capas finas. Con nuestro proceso de fabricación pulvimetalúrgico, podemos ajustar la microestructura del material de recubrimiento específicamente a la aplicación.