Máxima pureza
Las impurezas metálicas y no metálicas del cátodo de pulverización se transfieren a la capa funcional pulverizada y, por tanto, perjudican su funcionamiento o provocan la formación de partículas en el proceso de PVD (efecto de arco).
Por ello, los cátodos de pulverización cumplen los requisitos de pureza más exigentes. Las principales ventajas son una excelente conductividad eléctrica de la capa, una mínima formación de partículas durante el proceso de PVD y unos índices de recubrimiento homogéneos a lo largo de la vida útil de los cátodos de pulverización.
Garantizamos la pureza de nuestros cátodos de tungsteno en al menos un 99,97 % (3N7). La pureza típica de nuestros cátodos de wolframio es del 99,99 %. De este modo, nos aseguramos de que las capas que producimos cumplan con los requisitos más exigentes. Para aplicaciones en semiconductores, garantizamos incluso purezas de al menos el 99,999 % (5N).
Mayor densidad y microestructura homogénea
Nuestros cátodos de tungsteno para pulverización están altamente compactados mediante procesos de transformación especiales. Esto permite aumentar y homogeneizar la velocidad de recubrimiento y mejorar las propiedades del mismo en el proceso de recubrimiento de PVD. Como resultado, mejora la eficiencia de la producción de capas finas, y se consigue un alto rendimiento.
Podemos ajustar específicamente la microestructura del material de recubrimiento con nuestro proceso de fabricación. Con una microestructura y textura uniformes de los cátodos de pulverización, se pueden conseguir tasas de erosión y grosores de capa también uniformes.