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Cátodo de pulverización de tungsteno-titanio

Cátodos de pulverización de tungsteno-titanio

La alta densidad del tungsteno, la buena resistencia a la corrosión y la adhesión del titanio a muchas superficies, y la buena miscibilidad de ambos metales: estas propiedades hacen del tungsteno-titanio el material ideal para crear capas finas. Esto impide la difusión de átomos extraños.

Sus ventajas en términos generales:

  • Gran pureza
    > 99,95 %

  • Gran densidad
    > 98 %

  • Microestructura homogénea

  • Altas velocidades
    de pulverización gracias a la máxima densidad del material

  • Baja tasa de partículas

Áreas de aplicación del tungsteno-titanio

El tungsteno-titanio (WTi), con un porcentaje de peso del diez por ciento de titanio, se utiliza, por ejemplo, como barrera de difusión y promotor de la adhesión en la metalización de microchips. El tungsteno-titanio separa las capas semiconductoras y de metalización en este ámbito de aplicación; por ejemplo, el aluminio del silicio o el cobre del silicio. Sin una barrera de difusión, el cobre y el silicio formarían una fase intermetálica en los microchips y, por tanto, perturbarían la función del semiconductor. En las células solares de película fina flexibles (CIGS), una capa de barrera de WTi impide que los átomos de hierro se difundan desde el sustrato de acero a través del contacto posterior de molibdeno hacia el semiconductor CIGS. Incluso unos pocos µg/g de hierro pueden reducir significativamente la eficiencia de las células solares CIGS.

Esquema de la estructura de una célula solar CIGS

Esquema de la estructura de una célula solar CIGS

Metalización de semiconductores flip-chip con el uso de recubrimientos de tungsteno-titanio

 Metalización de semiconductores flip-chip con el uso de recubrimientos de tungsteno-titanio

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Obtenga más información sobre las áreas de aplicación de los cátodos de pulverización aquí

Ejemplos de aplicación de los recubrimientos de tungsteno-titanio

Proceso de PVD

Cátodos para pulverización de tungsteno-titanio

Amplia gama de tipos de cátodos

Producimos nuestros cátodos de pulverización de tungsteno-titanio mediante innovadores procesos de fabricación pulvimetalúrgica. Nuestros cátodos de tungsteno-titanio suelen tener un porcentaje de peso de 10 % de titanio.

Suministramos nuestros cátodos de pulverización de tungsteno-titanio en varios tamaños hasta un diámetro de 450 mm. Somos uno de los primeros fabricantes en producir tungsteno-titanio no solo como cátodo plano sino también como cátodo rotatorio. 

Tungsteno-titanio (WTi) de Plansee: Propiedades generales

Densidad ≥ 98 %
Pureza > 99,95 %
Contenido de titanio 10 % en peso
Homogeneidad de la distribución del titanio ± 0,5 %
Microestructura grano fino, tamaño de grano < 50 µm

Especificaciones del producto

Aquí encontrará las especificaciones detalladas de los cátodos de pulverización de tungsteno-titanio (WTi).

¿Tiene alguna pregunta? ¡Contacte con nosotros!

Pureza insuperable de los materiales para una mejor calidad

Centro de competencia para cátodos de pulverización

Cuanto más puro sea el material de recubrimiento, mejor será la calidad de la capa. Utilizamos solo el polvo más puro desde el principio, al mezclarlo en nuestras propias instalaciones para garantizar la máxima pureza del material. Supervisamos cada paso (desde el polvo hasta el producto acabado) y le garantizamos que solo salen de nuestra fábrica cátodos con la densidad, la pureza y una microestructura homogénea específicamente garantizadas.

Garantizamos una pureza de al menos el 99,95 % (3N5). Para aplicaciones en el sector de los semiconductores, garantizamos incluso una pureza de al menos el 99,99 % (4N).

I+D en Plansee para unos resultados de recubrimiento óptimos

La alta densidad y pureza de nuestros cátodos de WTi ayudan a reducir la formación de partículas durante el proceso de recubrimiento, lo que contribuye de forma importante a obtener resultados óptimos de recubrimiento. La relación entre la formación de partículas y las propiedades del cátodo se ha investigado, por ejemplo, en los siguientes artículos científicos:

Journal of Vacuum Science & Technology A: “Particle contamination during sputter deposition of W-Ti films” 

A la publicación

Journal of Vacuum Science & Technology A: "Quantitative measurement of nodule formation in W-Ti sputtering"

A la publicación

Powder Metallurgy Review, J. Winkler, C. Linke: "Sputtering targets: The advantages of Powder Metallurgy in the production" 

A la publicación

Todo de una sola fuente: desde el polvo hasta el cátodo terminado

Los recubrimientos de tungsteno-titanio se producen mediante el proceso de pulverización de PVD. Suministramos la materia prima en forma de cátodos de pulverización. Nuestro material tiene una alta densidad, una gran pureza del material y una composición de fase homogénea para garantizar un proceso de recubrimiento estable. Nos encargamos de todo el proceso de producción: Desde la mezcla y el prensado del polvo de metal hasta la compactación, el mecanizado y la unión de nuestros cátodos, controlamos todos los pasos del proceso. Esto nos permite garantizar una alta calidad constante, incluso durante periodos de tiempo muy largos. También se incluye: el desarrollo de nuevos materiales para optimizar los procesos de recubrimiento y las capas.

    Óxido
    Reducción
    Mezclas de aleaciones
    Prensado
    Sinterización
    Conformado
    Tratamiento térmico
    Proceso de mecanización
    Unión
    Control de calidad
    Reciclaje
ÓxidoMolymet (Chile) es el mayor procesador mundial de concentrados de mineral de molibdeno y nuestro principal proveedor de trióxido de molibdeno. El Grupo Plansee posee el 21,15 % de las acciones de Molymet. Global Tungsten & Powders (USA) es una división del Grupo Plansee y nuestro principal proveedor de polvos de metal de tungsteno.

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