유리에 아주 잘 들러붙으며 전기전도성이 높은 몰리브덴은 박막 트랜지스터(TFT-LCD)와 촉각 센서(터치 패널)의 전극 레이어에 광범위하게 사용됩니다. 이런 레이어는 제조 공정 중 그리고 디스플레이의 구성요소로서 습도와 부식성 물질에 노출됩니다. 몰리브덴-탄탈륨은 이런 레이어의 내화학성을 확연히 개선합니다. 몰리브덴-탄탈륨 레이어는 습식 화학 구조(식각) 속성 또한 뛰어납니다.
높은 순도
> 99.97%
최고 밀도
> 98%
균질한 미세구조 및 화학 조성
제품 사양 다운로드:
당사는 고융점 금속의 분말 야금 생산을 전문으로 합니다. 당사의 MoTa 타겟은 가장 순수한 금속 분말을 주의깊게 혼합하여 생산됩니다. 타겟의 탄탈륨 함량은 해당되는 응용 분야에 따라 정의되며 그 양은 최대 11중량백분율입니다. 그 후 당사의 소결 장비를 이용하여 단조하고 균일하게 압축한 후 타겟으로 성형합니다. MoTa 타겟은 당사의 자체 본딩 샵에서 이용할 수 있도록 마무리됩니다. 따라서 당사의 MoTa 타겟은 가장 엄격한 품질 요건을 만족합니다.
Plansee의 MoTa 스퍼터링 타겟은 특수한 성형 공정을 통해 크게 압축됩니다. 이렇게 하면 PVD 코팅 공정의 균질한 코팅률을 확보할 수 있고 코팅 속성이 개선된다는 장점이 있습니다. 따라서 필름 생산 시 효율성과 산출량이 개선됩니다. 당사의 분말 야금 제조 공정을 이용하면 코팅 물질의 미세구조를 구체적인 개별 응용 분야에 맞춰 조정할 수 있습니다.
당사의 타겟은 가장 엄격한 순도 요건을 충족합니다. 주요 장점은 레이어의 뛰어난 전기전도성과 PVD 공정 중 최소한의 입자가 형성된다는 것입니다. 스퍼터링 타겟에 있는 금속 및 비금속 불순물은 스퍼터링되는 기능층으로 이동되어 그 기능을 저해하거나 PVD 공정에서 입자가 형성되는 것을 초래합니다(아크 효과). 당사는 최소 99.97%의 MoTa 타겟 순도를 보장합니다.
PVD 코팅 공정에서는 모든 것이 완벽히 맞아야 합니다. 모든 공정 파라미터가 완전히 일치해야만 고객의 정확한 요건에 적합한 레이어가 생산됩니다. 당사는 PVD 응용 실험실에서 실제 조건 하에 스퍼터링을 실시합니다. 당사의 개발 팀에서는 정의된 사양에 따라 여기에서 레이어를 만들고 자세히 분석합니다. 즉, 새로운 코팅 소재가 고객 및 많은 개발 파트너들과의 협업을 통해 매우 단기간에 개발된다는 뜻입니다. 시스템 제조업체와 OEM 업체들과 수년 간 함께 일해온 당사는 최근의 개발과 최적화에 직접 참여하고 있습니다.
당사의 전문성을 가장 잘 입증하는 것은 바로 저희 자신입니다. 당사는 반도체 베이스 플레이트와 회전식 X선 아노드와 같은 당사의 수많은 제품들을 PVD, CVD, APS, VPS 코팅 공정을 이용하여 자체적으로 코팅합니다.
당사는 스퍼터링 타겟에 대한 전체 부가가치 사슬을 한 곳에서 해결합니다. 원재료부터 완제품까지, 그리고 신소재 개발과 코팅 프로세스 및 레이어 최적화도 하고 있습니다. 소결은 분말 야금 제조 공정에서 중심적인 공정입니다. Plansee는 다공질 분말 블랭크로부터 조밀한 금속 제품을 제조합니다. 당사는 세계 최대의 고융점 금속용 열간 압연 밀링을 이용하여 텅스텐 평면 타겟을 생산합니다. 머시닝 공정 이후, 스퍼터링 타겟이 설치 완료되도록 당사의 로컬 본딩 샵에서 마무리합니다.
당사의 고객들은 100년 가까이 독립적인 비상장 기업으로 존재해 온 Plansee를 믿고 의지합니다. 신뢰성과 지속성은 여러분께 중요한 만큼 저희에게도 중요합니다. 특히 원재료 공급의 경우 그렇습니다. Global Tungsten & Powders (GTP)와 Molibdenos y Metales (Molymet)의 당사 지분을 통해 Plansee Group은 텅스텐 및 몰리브덴 가공과 관련한 모든 단계를 다룹니다. 분말 생산부터 분말 야금 공정까지, 또 반제품 및 고객별 구성요소 생산까지 모든 과정에 참여합니다. 그리고 정말 중요한 점은 당사는 탄탈륨 분말을 분쟁이 없다고 인증받은 원재료 소스에서 조달한다는 것입니다.
