窄边框显示器和触摸屏：导体轨道覆盖
现代桌面显示器和大型电视屏幕大都摒弃了塑料框架，即边框。这不仅改善了屏幕外观，还能将多个屏幕放在一起形成一个大屏幕。但没有了塑料框架，TFT 玻璃上的高反射钼、铝或铜导体轨道就会裸露在外。此时，额外的 MoOx 抗反射涂层便可解决这一问题。金属钼会反射大约 60% 的入射光，而同样厚度的 MoOx 层的反射率不足 6% (550 nm)。这为导体轨道提供了极好的防护。
氧化钼溅射靶
氧化钼层光学反射低，因此在现代平面屏中有着广泛的应用，无论是用于可靠地分离亚像素、理想覆盖导体轨道，还是用于防止令人困扰的环境光反射，氧化钼层都能胜任。我们可提供具有不同化学成分的氧化钼，可作为平面靶材，用于生产此类涂层。为了调整 MoOx 层的刻蚀性和耐化学性，我们在氧化钼中掺杂其他金属元素。
优势一览：
纯度高
> 99.9%同质微观结构和化学成分
成分可变
电导率
下载我们的产品规格：
重要特性一览
| 密度 [%] | ≥ 95 |
| 纯度 [%] | > 99.9 |
| 热膨胀系数 [ppm/K] | 5 |
| 热导率 [W/(m-K)] | 4 - 6 |
| 电导率 [S/cm] | 120 - 1100 |
屏幕中的氧化钼应用
横截面：氧化钼层如何覆盖窄边框屏幕中的导体轨道（即暗氧化层）。
在触摸屏中，氧化钼 PVD 薄层可防止金属表面（金属桥）与电容式触觉传感器发生不必要的反射。
当涂有氧化钼时，触摸屏中的触觉传感器便不会有存在感。
OLED：集抗反射层与电极于一体
当环境光照射到 OLED 显示屏上时，TFT 钼金属喷镀层（栅极、源极/漏极电极）会反射环境光，从而降低显示器的对比度。圆偏振滤波器可用于减少不必要的反射。它们虽然减少了来自电极的反射，但也降低了显示器的光输出。MoOx 能够非常好地吸收光线并且还具有导电性，因而是 TFT 金属喷镀理想的抗反射层。使用 MoOx 可使 OLED 制造商省去偏振层。
用于 OLED 和太阳能电池技术的氧化钼透明薄膜
透明的 MoOx 层代表了另一个应用领域。在涂层工艺中添加氧，允许将膜的氧含量最高调节至三氧化钼的化学计量数。这些薄膜具有特殊的电子特性，尤其其电子逸出功较高。MoOx 透明薄膜因此可以用作 OLED 技术中的“空穴注入层”(HIL)。在基于 CIGS 和 CdTe 的薄膜太阳能电池中，MoOx 薄膜常作为背触点中的部件和阻挡层（例如，防止硒化）。有机太阳能电池也受益于额外的三氧化钼层。
有关更多详细信息，请参阅《Nature Research》上的文章《Thin-film metal oxides in organic semiconductor devices: their electronic structures, work functions and interfaces（有机半导体设备中的薄膜金属氧化物：其电子结构、逸出功和接合）》。
OLED 显示屏中 RBG 像素结构的简化示意图：
OLED 显示屏活性层的简化示意图
透明的 MoOx 层也用于高效异质结硅太阳能电池。洛桑联邦理工学院的研究人员发布了关于该主题的出版物，题为：《Toward Annealing‐Stable Molybdenum‐Oxide‐Based Hole‐Selective Contacts For Silicon Photovoltaics（关于适用于硅光伏的退火稳定氧化钼基空穴选择性接触）》，该论文由 Essig 于 2018 年发布于 Solar RRL - Wiley Online Library。
在气体传感器、催化剂或薄膜电池中，氧化钼层对于水分解（光催化生产氢气）的适用性是当今科研重点应用中十分值得进一步探究的领域。
新涂层解决方案专业中心
在 PVD 涂层工艺中，每个部件均须完美契合。只有在所有工艺参数均完美契合的情况下，才能生产出符合客户特定需求的涂层。我们的溅射工艺在实际条件下的 PVD 应用实验室中进行。我们的研发团队会根据指定的规格制作涂层并开展详细分析。我们在自己的涂层实验室中测试氧化钼的涂层特性。我们很乐意就各种材料成分、薄膜厚度和工艺参数提供建议。
我们已为氧化钼溅射靶的制造和特性申请了多项专利。
关于此主题的更多文章：
《Thin-film metal oxides in organic semiconductor devices: their electronic structures, work functions and interfaces（有机半导体设备中的薄膜金属氧化物：其电子结构、逸出功和接合）》
《Toward Annealing‐Stable Molybdenum‐Oxide‐Based Hole‐Selective Contacts For Silicon Photovoltaics（关于适用于硅光伏的退火稳定氧化钼基空穴选择性接触）》，Essig 于 2018 年发布于 Solar RRL - Wiley Online Library