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钼旋转溅射靶

钼单块旋转溅射靶

钼溅射靶形式的涂层材料用于生产 CIGS 背触点或平板屏幕(TFT LCD、OLED)薄膜晶体管的钼层。单块旋转靶没有衬管,因此由 100% 涂层材料构成。这些靶材可显著提高溅射性能,同时实现更高的吞吐量。因此,与粘结旋转靶材相比,材料产量的提高也降低了涂层工艺中的制造成本。

优势一览:

  • 高金属纯度
    > 99.97%

  • 高密度
    > 99.5%

  • 同质微观结构

  • 能够实现高生产能力和产量

下载我们的产品规格:

钼旋转溅射靶规格(单块)

单块旋转靶内涂层

钼旋转溅射靶

使用单块靶材时,钼与来自涂层设备的冷却水直接接触。通常,必须使用合适的添加剂(即抑制剂)来调节冷却水,以便正常使用单块靶。这些添加剂可稳定冷却水的 PH 值,防止钼发生腐蚀。Plansee 正在申请专利的聚合物基内涂层专为单块旋转靶而开发,可防止涂层材料与冷却水直接接触。这是一个巨大的优势,因为这意味着在 CIGS 太阳能电池和 TFT LCD 屏幕的生产中大幅减少抑制剂的使用,从而节省成本。耐用的内涂层非常薄,不会显着影响旋转靶的导热性,并继续保证出色的溅射性能。

更多了解单块旋转溅射靶的优势:

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